全氟脂如何推动半导体技术革新

半导体制造对洁净度和精度的要求近乎苛刻，而全氟聚醚脂凭借其独特的性能，成为光刻机、真空设备等核心部件的“隐形功臣”。

半导体制造的挑战

纳米级精度需求：尘埃或润滑剂挥发可能污染晶圆。

真空环境兼容性：传统润滑剂易挥发导致设备故障。

PFPE在关键设备中的应用

光刻机：透镜驱动系统、真空机械臂的润滑。

刻蚀与沉积设备：耐等离子体腐蚀的密封材料。

真空泵：长期运行下的稳定性保障。

技术突破案例

ASML EUV光刻机：使用PFPE润滑脂实现0.33 NA镜头的精准控制。

嘉乐德油邦手的定制化PFPE解决方案。

结论

PFPE润滑脂是半导体行业迈向更高制程节点的基石，其性能优化直接关系到摩尔定律的延续。